Kem Chống Nắng Trang Điểm Dành Cho Da Nhạy Cảm Easydew Rx Post Laser Mineral BB Cream SPF46 40ml
Kem Chống Nắng Trang Điểm Dành Cho Da Nhạy Cảm Easydew Rx Post Laser Mineral BB Cream SPF46 40ml
Easydew là dược mỹ phẩm được các viện thẫm mỹ, spa, phòng khám da liễu trên cả nước tin dùng nhờ hiệu quả dưỡng da tuyệt vời với EGF - Yếu tố tăng trưởng biểu bì
POST LASER PHỤC HỒI DA chuyên sâu sau liệu trình chăm sóc da Thành phần được cấp bằng sáng chế độc quyền của Daewoong Pharmaceutical * DW-EGF (Yếu tố tăng trưởng biểu bì) và các hoạt chất khác sẽ giúp cải thiện làn da nhanh chóng mà không gây kích ứng cho da nhạy cảm, từ đó nâng cao hiệu quả của liệu trình thẫm mỹ da.
Các sản phẩm EASYDEW có chứa DW-EGF (sh-Oligopeptide-1), thành phần được cấp bằng sáng chế độc quyền của Daewoong Pharmaceutical (Công ty dược phẩm hàng đầu của Hàn Quốc)
EGF là yếu tố tăng trưởng biểu bì tồn tại trong cơ thể con người và đóng một vai trò quan trọng trong việc cải thiện làn da. Nhưng khi trên 25 tuổi, hàm lượng EGF trong cơ thể sẽ giảm dần, và khả năng cải thiện làn da của bạn cũng giảm theo. Về cơ bản, cần tăng cường EGF để cải thiện làn da của bạn .
1. Công dụng
- Chống lại tia UVA, UVB (SPF 46, PA++), giúp giữ ẩm phục hồi da.
- Các khuyết điểm và vết thâm trên da được che phủ hoàn toàn giúp bạn thêm tự tin khi đi ra ngoài.
- Là sản phẩm BB nguyên bản trung thành với chức năng ban đầu không chỉ giúp ngăn chặn tia UV mà còn củng cố hàng rào bảo vệ da và cho phép độ bám dính tuyệt vời, duy trì kết cấu da mịn màng.
2. Thành phần
Thành phần chính: DW-EGF, Tocopherol, Centella Asiatica Extract, Phytosphingosine, Saccharide Isomerate…
3. Hướng dẫn sử dụng:
Thoa lên mặt sau bước dưỡng da và trước khi đi ra ngoài.
4. Cách bảo quản sản phẩm:
- Đậy kĩ sau khi sử dụng
- Để nơi khô ráo thoáng mát.
- Tránh ánh nắng trực tiếp.
Dung tích:
40mlXuất xứ thương hiệu:
Hàn Quốc.Chịu trách nhiệm đưa ra thị trường:
Cty TNHH Picare Việt Nam.**Mẫu mã bao bì có thể thay đổi theo quy định của nhãn hàng
#easydew #picare #kemchongnang #kemchongnangbb #postlaser
Đang cập nhật nội dung
Xem thêmĐang cập nhật nội dung
Xem thêm